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散热结构及使用其的中子束产生装置

摘要

本揭露内容的一实施方式提供一种散热结构,包含壳体。壳体具有下表面、入水信道、出水信道以及隆起部,其中入水信道及出水信道位在壳体的相对两端并位在下表面之上,且沿着第一方向延伸,隆起部位在入水信道及出水信道之间并位在下表面之上,其中隆起部朝着远离下表面的方向隆起,且隆起部具有背向下表面的隆起面,隆起面与下表面之间的距离在沿着第一方向上为先增后减的。散热结构可对靶材的中央处提供较强的散热效果,使散热结构可适于应用在中子束产生装置。

著录项

  • 公开/公告号CN111954362A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 禾荣科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202010258682.1

  • 发明设计人 叶吉田;

    申请日2020-04-03

  • 分类号H05H3/06(20060101);H05K7/20(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人薛恒;王琳

  • 地址 中国台湾新竹市埔顶路18号2楼之2

  • 入库时间 2023-06-19 08:55:10

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