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公开/公告号CN111945109A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-17
原文格式PDF
申请/专利权人 皮姆思株式会社;
申请/专利号CN201910574815.3
发明设计人 金永周;
申请日2019-06-28
分类号C23C14/04(20060101);C23C14/12(20060101);C23C14/24(20060101);
代理机构11579 北京锺维联合知识产权代理有限公司;
代理人罗银燕
地址 韩国仁川市防筑路352101号、102号
入库时间 2023-06-19 08:55:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-20
授权
发明专利权授予
机译: 带框架的蒸镀掩模,具有框架的蒸镀掩模的制造方法,具有框架的蒸镀掩模的制备,图案的制造方法以及有机半导体元件的制造方法
机译: 框架一体式蒸镀掩模,框架一体式蒸镀掩模制备,蒸镀图案形成方法,有机半导体元件的制造方法,有机EL显示器的制造方法
机译:使用S层蛋白的薄膜处理:用于制造硅纳米玻璃阵列的胶体金蚀刻掩模的生物预养组装
机译:用于ArF线高透射衰减相移掩模空白应用的(TiO2)(ZrO2)(x)-(Al2O3)(1-x)复合薄膜的光学模拟,优化设计和制造
机译:使用高纵横比微柱阵列制造的微穿孔弹性体聚二甲基硅氧烷掩模,用于空间定义的表面改性:建立微阵列平台的非常规方法
机译:采用冰自组装结构的等离子体辅助冷冻模板法开发复合薄膜制备方法
机译:自组装和纳米制造方法的光子学和等离激元学:第一部分:通过化学和仿生模板技术直接组装无机纳米结构。第二部分:用于表面增强传感和荧光的等离子体共振结构的制造。
机译:用于细胞培养和皮肤应用的薄膜复合硅弹性体:制造和表征
机译:带有微镜的薄膜波导,用于由内置掩模方法制造的三维光学电路
机译:用于受控制造的自组装和Langmuir-Blodgett薄膜中分子结构的建模和表征