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一种公差管理系统及管理方法

摘要

本发明公开了一种公差管理系统及管理方法,用于企业在产品设计和制造阶段对公差引起的产品外观(间隙、面差)、噪音、振动、装配干涉、产品互换性差、制造周期长、产品合格率低进行管理,该解决方案以公差为切入点,通过在产品的设计阶段以及产品的制造阶段对产品的检测数据建立分析和反馈,实现尺寸数据流从设计到制造再到设计的闭环循环反馈;实现产品零件尺寸公差从设计到工艺,到制造再到检测的全程跟踪和管理;不断提升企业的尺寸公差设计和管理的能力,提高产品结构设计优化的迭代效率。从而实现产品的一致性提高,装配质量,装配效率的提升以及设计稳健性和产品质量稳定性的提高,最终实现提质量、降成本、上批量、缩周期的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN111931340A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆诚智鹏科技有限责任公司;

    申请/专利号CN202010643040.3

  • 申请日2020-07-06

  • 分类号G06F30/20(20200101);G06F30/12(20200101);G06F30/15(20200101);G06F30/17(20200101);

  • 代理机构50264 重庆中兴达启创专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人毛新民

  • 地址 400000 重庆市渝中区大坪正街118号D栋11楼8号房

  • 入库时间 2023-06-19 08:53:32

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