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一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法

摘要

本发明提供了一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法,属于纳米晶技术领域。该技术方案将类卤素铵盐(硫氰酸铵、四氟硼酸铵、六氟磷酸铵)引入到制备CdTe纳米晶的前驱体溶液中,原位引入的类卤素基团(即硫氰酸基团、四氟硼酸基团、六氟磷酸基团)能够有效钝化CdTe纳米晶的表面缺陷,减少非辐射复合中心,从而有效提高其荧光性能和稳定性。本发明制备的CdTe纳米晶具有较高的荧光性能,且稳定性较好;同时,其工艺过程简单,制备参数易于控制,重复性好,为制备高亮度稳定CdTe纳米晶提供了一种新的途径。

著录项

  • 公开/公告号CN111908435A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南昌大学;

    申请/专利号CN202010804013.X

  • 发明设计人 李璠;王晓峰;夏雪峰;王腾逸;

    申请日2020-08-12

  • 分类号C01B19/04(20060101);B82Y40/00(20110101);B82Y20/00(20110101);C09K11/88(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 330000 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号

  • 入库时间 2023-06-19 08:52:00

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