公开/公告号CN111908454A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-10
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院金属研究所;
申请/专利号CN201910386388.6
申请日2019-05-09
分类号C01B32/168(20170101);C01B32/164(20170101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);
代理机构21234 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张志伟
地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
入库时间 2023-06-19 08:50:28
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机译: 多层尺度的光电掩膜,多层尺度的光电掩膜的制造方法,图案转移方法以及薄膜晶体管的制造方法
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