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一种可回收利用气体的等离子体射流产生系统

摘要

本发明公开了一种可回收利用气体的等离子体射流产生系统,其包括等离子体射流组件、混气腔、工作气体供气通路和前驱气体供气通路,工作气体供气通路接入混气腔,用于提供工作气体,前驱气体供气通路接入混气腔,用于提供携带单体材料的前驱气体,混气腔将工作气体和前驱气体混合后给等离子体射流组件供气,使得等离子体射流组件喷射等离子体射流,还包括防护罩和回气通路,防护罩用于罩设在被处理材料表面形成隔绝外界空气的密闭空间,等离子体射流仅能喷射在密闭空间内,防护罩上设有回气口,回气口通过回气通路接入混气腔。本发明可以排除外界杂质气体对材料表面处理的干扰,加强等离子体射流处理效果,同时有效减少气体浪费,提升环保经济性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H05H 1/24 专利申请号:2020108249588 申请公布日:20201030

    发明专利申请公布后的驳回

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