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一种改进的DEM最大似然约束多基线InSAR相位解缠方法

摘要

本发明涉及一种改进的DEM最大似然约束多基线InSAR相位解缠方法包括:S1、获取同一区域的多张干涉图,针对每张干涉图分别构建每个同名像素点所对应的概率密度函数;S2、将同名像素点对应的概率密度函数按照组合关系进行组合得到联合概率密度函数,求取一定区间内函数极大值所对应的相位值,形成相位集合;S3、计算得到相位集合的极差,与噪声判定阈值进行比较,在大于噪声判定阈值的像素点处加入外部DEM进行约束;S4、求得不同像素点对应的联合概率密度函数的最大值解,得到最终的解缠相位。与现有技术相比,本发明能够有效地抑制噪声影响,并减少对外部DEM的依赖性,得到精度较高的反演结果。

著录项

  • 公开/公告号CN111856459A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 同济大学;

    申请/专利号CN202010559692.9

  • 申请日2020-06-18

  • 分类号G01S13/90(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人申丹宁

  • 地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号

  • 入库时间 2023-06-19 08:44:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-05

    授权

    发明专利权授予

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