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公开/公告号CN111837077A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-27
原文格式PDF
申请/专利权人 科磊股份有限公司;
申请/专利号CN201980018419.0
发明设计人 张强;A·塞兹希内尔;
申请日2019-02-26
分类号G03F7/20(20060101);H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人刘丽楠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 08:39:31
机译: 用于深紫外线(DUV)光学成像系统的任意波前补偿器
机译: 用于深紫外(DUV)光学成像系统的任意波前补偿器
机译: 深度紫外线(DUV)光学成像系统的任意波前补偿器
机译:在多层碳纳米管上使用深紫外线(DUV)和真空紫外线/深紫外线(VUV / DUV)照射的蚀刻效果比较
机译:两张纸的偏振场和波前,用于了解光学成像系统中的偏振像差
机译:基于光谱紫外辐射观测的生物加权紫外太阳辐射量DUV(破坏性紫外辐射)的基本特征分析
机译:用于任意光学系统中的电磁波前沿传播的鲁棒方法
机译:具有任意响应功能的光学成像系统的分析和评估框架
机译:干涉辅助万花筒元复用器用于任意自旋波前操纵
机译:用于理解光学成像系统中的偏振像差的两张纸的偏振场和波前沿
机译:量子效率无系数的光子计数光学成像系统,用于微弱深空物体的长基线干涉成像