一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统及工艺

摘要

本发明公开了一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统及工艺，所述深度处理系统包括：原水池(1)、预氧化接触池(2)、沉淀池(3)、砂滤池(4)、中间集水池(5)、后臭氧接触池(6)、活性炭滤池(7)以及消毒池(8)，所述原水池(1)的原水经泵提升至所述预氧化接触池(2)，经臭氧预氧化处理后出水依次提升至所述沉淀池(3)和砂滤池(4)，经混凝沉淀砂滤常规处理后出水至所述中间集水池(5)，所述中间集水池(5)的水泵入所述后臭氧接触池(6)，经臭氧后氧化处理后出水经所述活性炭滤池(7)进一步处理后进入所述消毒池(8)，经所述消毒池(8)消毒后排出。