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一种材料发射率污染影响原位实时测试方法及装置

摘要

本发明涉及一种材料发射率污染影响原位实时测试方法及装置,使用激光器发出光束,分光后,一束进入真空罐内,真空罐内的扩散单元将污染物沉积在沉积片上;光束经过沉积片反射,在真空罐外接收反射光束后与分光的另一束光进行相位比较,得出沉积片薄膜厚度实时变化情况,结果与石英晶体微量天平在沉积片相同位置获取的数据进行验证校准,激光光路也能对沉积片沉积的污染物薄膜作光学特性测试。本发明解决大型高敏感空间光学装置需深低温工作条件,深低温光学装置表面吸附污染物的成分、质量、厚度、光学等效应数据原位实时获取问题,研制深低温环境地面模拟试验装置,实现污染物特性实时原位测量,同时本发明也可用于对真空罐本底洁净度的测试。

著录项

  • 公开/公告号CN111766240A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京卫星环境工程研究所;

    申请/专利号CN202010628081.5

  • 申请日2020-07-02

  • 分类号G01N21/84(20060101);G01N5/00(20060101);

  • 代理机构11435 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人成丹

  • 地址 100094 北京市海淀区友谊路104号

  • 入库时间 2023-06-19 08:33:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-04

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N21/84 专利申请号:2020106280815 申请公布日:20201013

    发明专利申请公布后的视为撤回

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