公开/公告号CN111755424A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-09
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳泰研半导体装备有限公司;
申请/专利号CN202010542197.7
申请日2020-06-15
分类号H01L23/552(20060101);C23C14/04(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/58(20060101);B23K26/36(20140101);
代理机构44324 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人王志强
地址 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道塘头社区塘头1号路创维创新谷5#C栋203
入库时间 2023-06-19 08:30:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-31
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L23/552 专利申请号:2020105421977 申请公布日:20201009
发明专利申请公布后的驳回
机译: 一种产品为稳定的水性产品,可实现一个或多个病变的再矿化;一种为一种或多种损伤的再矿化的工艺;一种产品为稳定的,非水产品;两部分为稳定的,水性的产品一种或多种病变的再矿化和口香糖产品,以实现一种或多种病变的再矿化
机译: 利用材料选择性沉积现象实现原子层蚀刻工艺的蚀刻选择性
机译: 一种用于选择性催化还原的催化剂,该结构包括CHA结构类型的沸石(包含CU)和MFE结构类型的沸石(包含FE),一种包含该催化剂的排气处理系统,包括一种处理天然气的工艺