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基于近区场重采样的阵列单元幅相一致性计算方法

摘要

本发明公开了一种基于近区场重采样的阵列单元幅相一致性计算方法,属于相控阵天线测量技术。该方法在获得天线阵列每个单元的近区场采样数据的基础上,首先以各单元中心法线为中心,取一定张角的区域,使用相同的局部栅格点重采样数据;然后选定基准单元,对幅度数据,计算每个单元在局部栅格点内的功率标量累积,再与基准单元作差,求得各单元的幅度一致性;对相位数据,将每个单元与基准单元在局部栅格点上的相位作差,再计算区域内的差相位加权平均值,求得各单元的相位一致性。本发明充分考虑了天线阵列中各单元辐射特性存在差异的实际情况,计算得到的单元幅相一致性与真实激励更为接近。

著录项

  • 公开/公告号CN111753412A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010533488.X

  • 发明设计人 朱平;卢阳沂;孔玥;黄彩华;

    申请日2020-06-12

  • 分类号G06F30/20(20200101);G01R29/10(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 210003 江苏省南京市中山北路346号

  • 入库时间 2023-06-19 08:30:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-17

    授权

    发明专利权授予

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