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涂覆蒸发基底和产生至少部分封装的基底的方法,其装置和产品

摘要

本发明涉及涂覆蒸发基底和产生至少部分封装的基底的方法,其装置和产品。提供了一种用于涂覆蒸发基底的方法和装置,其中当所述基底经历从基本上液相到气态相的相变的时间期间,膜涂层12沉积在基底10的至少一部分上。在蒸发基底材料的至少一部分时形成的气态物质101当经历在气态相中化学沉积反应时产生微粒11,所述微粒11形成至少一个涂层以产生膜涂层12。

著录项

  • 公开/公告号CN111748796A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皮考逊公司;

    申请/专利号CN202010223890.8

  • 发明设计人 马尔科·普达斯;尼库·奥克萨拉;

    申请日2020-03-26

  • 分类号C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);A61K9/28(20060101);A61K47/02(20060101);

  • 代理机构51258 成都超凡明远知识产权代理有限公司;

  • 代理人王晖;刘书芝

  • 地址 芬兰埃斯波

  • 入库时间 2023-06-19 08:30:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/455 专利申请号:2020102238908 申请日:20200326

    实质审查的生效

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