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一种多尺度结构超疏水性能表面的制备方法

摘要

本发明公开了一种具有多尺度结构的超疏水表面的制备方法,具体制作过程如下:首先在硅基底上利用厚胶光刻的方法制作微米尺度的栅格图形,利用刻蚀方法在硅基底上通过光刻的栅格图形制造沟槽阵列;然后在沟槽阵列上用激光超光微细加工技术制造出更小的纳米尺度的沟槽阵列;之后以带有微纳米结构的硅基底为模具,用热压印的方法翻模制造FEP结构。本发明制备的FEP结构是由带有微纳米结构的硅基底为模具翻模制造的,带有相应的多尺度结构,如附图所示,在应用中表现出超疏水性,并能相比普通微结构的超疏水表面保持更长时间的C‑B状态稳定性,从而长时间维持超疏水性能,表现出减阻,自清洁等功能。

著录项

  • 公开/公告号CN111704103A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202010426079.X

  • 发明设计人 王朝晖;李园;郑腾飞;

    申请日2020-05-19

  • 分类号B81C1/00(20060101);G03F7/00(20060101);G03F7/20(20060101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人贺小停

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2023-06-19 08:22:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-09

    授权

    发明专利权授予

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