一种汉青瓷的烧制工艺

摘要

本发明涉及一种汉青瓷的烧制工艺，其釉烧温度为1050℃‑1150℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为130‑150℃/min。所述烧制工艺包括如下步骤：制坯、上釉、素烧、贴花和╱或描金和╱或印金、釉烧。其采用电窑烧制。并且其通过调节散热孔和窑门以及烟筒来达到快速降温的目的。通过采用本发明的汉青瓷的烧制工艺，使烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高，并且烧成后的瓷体表面图案浑然一体，达到无缝衔接的程度。