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一种基于高斯曲率的光学靶标点投影规划方法

摘要

本申请涉及数字化测量技术领域,公开了一种基于高斯曲率的光学靶标点投影规划方法,本方法根据飞机表面局部区域的高斯曲率大小,自适应地调整光学投点器投射的靶标点密度,在对飞机表面轮廓以及装配质量进行检测时,能够满足不同区域对靶标点密度的不同要求,减小了因测量表面弯曲程度较大而造成的光学靶标点投影失真,便于摄影测量等系统对靶标点的识别和计算,提高了测量精度和测量效率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-23

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01B11/24 专利申请号:2020104419452 申请公布日:20200915

    发明专利申请公布后的驳回

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