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一种基于原位掺杂改性的聚噻吩衍生物导电薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种基于原位掺杂的聚噻吩衍生物导电薄膜及其制备方法和应用,属于有机光电材料技术领域。本发明所述制备方法采用气相渗透技术,有效实现了将MoCl5作为前驱体通过气相渗透循环,对聚噻吩衍生物初始薄膜进行原位掺杂改性,其中,通过调节不同的气相渗透循环次数实现对基体材料中渗透厚度的控制,保证制得的聚噻吩衍生物导电薄膜的结构可控性和稳定性,本发明公开的制备方法工艺简单、操作简便,且经本发明公开的制备方法制得的聚噻吩衍生物导电薄膜,具有电导率优异、渗透厚度可控、材料性能稳定的特点,其改性后的电导率比基体材料提高了4个数量级,因此能够应用于多种电子器件中,在本领域中具有很好的应用价值和工业应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN111607199A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 陕西科技大学;

    申请/专利号CN202010457538.0

  • 发明设计人 王维科;穆雪阳;查通;

    申请日2020-05-26

  • 分类号C08L65/00(20060101);C08K3/16(20060101);C08J5/18(20060101);C08J7/00(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人范巍

  • 地址 710021 陕西省西安市未央区大学园

  • 入库时间 2023-06-19 08:08:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-22

    授权

    发明专利权授予

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