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一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法

摘要

一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法,采集芍药幼嫩部位进行低温处理;低温处理后的芍药外植体使用洗洁精浸泡后流水冲洗;冲洗完毕后的芍药外植体,浸泡在多菌灵和青霉素钠混合溶液中并置于摇床;浸泡后的芍药外植体由75%酒精消毒,再以0.1%升汞消毒进行表面消毒;消毒后的芍药外植体在含有益培灵的培养基中培养;本发明能有效降低芍药组织培养中的污染,且芍药外植体存活率较高,实用性、推广性强。

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    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):A01H 4/00 专利申请号:2020103142211 申请公布日:20200901

    发明专利申请公布后的驳回

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