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零位移基坑工程施工方法及其所用的基坑支护结构

摘要

本发明涉及土木工程领域,特别是涉及基坑支护工程领域中的一种零位移基坑工程施工方法及所用的基坑支护结构,该方法主要包括以下步骤:b)在挡土构件(6)与被保护对象(4)之间置入袋子(2);c)在袋子(2)内盛装流体(3);d)通过袋子(2)内的流体(3)对袋子(2)外侧的土体施加应力,补偿因基坑(5)施工产生的应力损失;e)通过被保护对象(4)一侧土体应力损失的补偿,控制被保护对象(4)的位移,本发明可对被保护对象(4)的位移进行实时控制,可减消基坑(5)施工影响,且施工造价低,质量可控,安全度、可靠度高。

著录项

  • 公开/公告号CN111749245A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 张继红;

    申请/专利号CN202010798301.9

  • 发明设计人 张继红;

    申请日2020-08-03

  • 分类号E02D17/02(20060101);E02D31/08(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200086 上海市虹口区海伦路306弄4号502室

  • 入库时间 2023-06-19 08:03:25

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