基于磁控溅射的高温高电场下低损耗电容器薄膜制备方法

摘要

本发明公开了一种基于磁控溅射的高温高电场下低损耗电容器薄膜制备方法，通过真空射频磁控溅射技术在聚合物电容器薄膜表面沉积高绝缘性能薄层，利用高绝缘性能薄层的宽能带隙，将其作为电荷阻挡层，从而有效抑制高温高电场作用下由于电极处的电荷注入而形成的泄漏电流，进而提高聚合物电容器薄膜在高温高电场作用下的充放电效率，达到提高其工作温度的目的。