首页> 中国专利> 正和/或负C片的薄膜设计

正和/或负C片的薄膜设计

摘要

薄膜涂层,例如其包括高、低折射率材料组成的交替层,根据入射光条件可作为正、负C片。特别地,延迟与入射角关系曲线的形状被发现可以由薄膜涂层的相位厚度(即以入射光波长表示的光学厚度,可通过角度、弧度或1/4波长数等形式表示)决定或至少部分决定。这些薄膜涂层可以被选择集成到防反射涂层、薄膜干涉滤光片和/或其他元件中,以改善性能和/或功能。

著录项

  • 公开/公告号CN101173994B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JDS尤尼弗思公司;

    申请/专利号CN200710105973.1

  • 申请日2007-06-04

  • 分类号

  • 代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人郑小粤

  • 地址 美国加利福尼亚州苗必达麦卡锡林荫大道430号

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-18

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G02B 5/30 变更前: 变更后: 申请日:20070604

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-06-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G02B5/30 变更前: 变更后: 申请日:20070604

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-06-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G02B 5/30 变更前: 变更后: 申请日:20070604

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-02-06

    授权

    授权

  • 2013-02-06

    授权

    授权

  • 2009-07-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

  • 2008-05-07

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号