成像曲面非均匀采样方法及DOE元件设计方法和曲面成像方法

摘要

本发明公开了一种成像曲面非均匀采样方法，该方法可以根据DOE面上的采样点对应得到成像曲面上的采样点坐标，该成像曲面上的采样点为非均匀采样，这样避免畸变或模糊。另外，本发明还公开了一种DOE元件的设计方法，该DOE元件的设计方法通过瑞利‑索末菲衍射积分公式的正逆向衍射方式使得设计出来的DOE元件适用于大视场投影，确保高分辨率成像。本发明还公开了使用上述方法的曲面成像方法，该曲面成像方法利用非均匀采样方法，使得DOE产生的空间频谱与曲面投影图像的空间频谱相互对应，适合近场大衍射角衍射的曲面成像，避免产生畸变或图像模糊。