一种超分子共插层结构抗光老化材料的制备方法

摘要

本发明提供了一种超分子共插层结构抗光老化材料的制备方法，是将紫外吸收剂与受阻胺光稳定剂共插层到LDH得到该光老化材料。其制备方法是，先采用共沉淀法制备紫外吸收剂插层LDH，再利用受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂碱性的差异，借助强碱能够制备弱碱的原理，将受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂插层LDH反应，强碱性的受阻胺光稳定剂将替换LDH层间弱碱性的紫外吸收剂，得到受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂共插层LDH。该方法减少了价格昂贵的受阻胺光稳定剂的用量，极大地提高了受阻胺光稳定剂的利用率，降低了受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂共插层LDH的制备成本，且具有制备方法操作简单、反应条件温和、层间受阻胺光稳定剂和紫外吸收剂的摩尔比值易于调控、便于工业化生产的优点。