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一种片上高品质薄膜微光学结构的制备方法

摘要

一种片上高品质薄膜微光学器件的制备方法,包括在薄膜表面镀金属层、飞秒激光选择性烧蚀金属膜、化学机械抛光以及化学腐蚀等步骤。本发明方法制备的片上微光学器件具有极高的表面光洁度,极低的光学损耗。该方法适用于各种片上薄膜(包含但不限于铌酸锂单晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金刚石薄膜等)上制备高品质的微光学结构(包含但不限于微盘腔、微环腔、光波导及其耦合器件)。

著录项

  • 公开/公告号CN108766876A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201810429577.2

  • 申请日2018-05-08

  • 分类号H01L21/263(20060101);H01L21/306(20060101);

  • 代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张宁展

  • 地址 201800 上海市嘉定区清河路390号

  • 入库时间 2023-06-19 07:04:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/263 申请日:20180508

    实质审查的生效

  • 2018-11-06

    公开

    公开

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