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一种藏区佛像锻打成型用耐退色青利玛合金及其工艺

摘要

本发明公开了一种藏区佛像锻打成型用耐退色青利玛合金及其工艺。按照重量百分比,该合金的成分为:Mg:1.0‑1.8wt.%,Y:0.4‑0.6wt.%,Sb:2.0‑3.0wt.%,Bi:1.5‑2.8wt.%,Co:8.0‑12.0wt.%,In:1.0‑1.5wt.%,Sn:12.0‑16.0wt.%,Ag:18.0‑24.0wt.%,余量为铜。该材料为我国藏区大型佛像生产过程中各个组件需要的变形利玛合金提供了一种新颖的材料学解决方案,且该合金不含铅和汞并能表现出稳定的青色外观。该材料的实施和产业化可以有效的推动我国宗教饰品行业新材料的更新和行业升级需求。

著录项

  • 公开/公告号CN108754217A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州宇智科技有限公司;

    申请/专利号CN201810971202.9

  • 发明设计人 杨长江;

    申请日2018-08-24

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 511340 广东省广州市增城区新塘镇友谊一横街1号(办公楼)第五层5010-2室

  • 入库时间 2023-06-19 07:00:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C22C9/00 申请日:20180824

    实质审查的生效

  • 2018-11-06

    公开

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