公开/公告号CN108429872A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-21
原文格式PDF
申请/专利权人 半导体元件工业有限责任公司;
申请/专利号CN201810082342.0
发明设计人 谢勇;
申请日2018-01-29
分类号H04N5/225(20060101);H04N5/217(20110101);
代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;
代理人马芬;姚开丽
地址 美国亚利桑那州
入库时间 2023-06-19 06:16:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-27
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/225 申请日:20180129
实质审查的生效
2018-08-21
公开
公开
机译: 具有第二成像装置的成像装置,该第二成像装置用于校正由第一成像装置拍摄的图像中的渐晕。
机译: 具有第二成像元件的成像装置,用于校正由第一成像元件捕获的图像中的渐晕
机译: 用于校正成像系统中的渐晕的方法和设备