公开/公告号CN108399640A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-14
原文格式PDF
申请/专利权人 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
申请/专利号CN201810187693.8
申请日2018-03-07
分类号
代理机构中国工程物理研究院专利中心;
代理人翟长明
地址 621999 四川省绵阳市919信箱658分箱
入库时间 2023-06-19 06:33:14
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/70 申请日:20180307
实质审查的生效
2018-08-14
公开
公开
机译: 一种测量方法,必须测量导电反应轨和功能表面之间的空间,该空间相对于导电反应轨移动,并且传感器适合其测量方法
机译: 身体例如反射镜,一种用于微光刻设备的确定方法,包括通过探测器信号确定物体的相对位置,该探测器信号具有有关部分测量光束在探测器表面上的撞击位置的信息
机译: 一种用于相对于反射镜的焦点调节电白炽灯的位置的装置。