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用于清洁光学元件的受控流体流动

摘要

基于第一流动模式朝向光学元件(420)的表面(422)引导流体(105),光学元件的表面包括碎片,并且基于第一流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面处的第一停滞区域(425);并且基于第二流动模式朝向光学元件引导流体,基于第二流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面上的第二停滞区域,第二停滞区域和第一停滞区域是光学元件的表面处的不同的位置。

著录项

  • 公开/公告号CN108369380A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201680058369.5

  • 申请日2016-08-02

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 06:32:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20160802

    实质审查的生效

  • 2018-08-03

    公开

    公开

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