公开/公告号CN108369380A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-03
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201680058369.5
申请日2016-08-02
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 06:32:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20160802
实质审查的生效
2018-08-03
公开
公开
机译: 用于清洁光学元件的受控流体流
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