用于电子工业的基于亚砜/二醇醚的溶剂

摘要

本发明涉及尤其适用于从显示器/半导体衬底或电子加工设备去除光致抗蚀剂和聚(酰胺酸)/聚酰亚胺的溶剂，其主要由以下各项组成：(A)第一组分，其由亚砜，例如DMSO组成；(B)第二组分，其由二醇醚，例如乙二醇单丁基醚组成；以及(C)第三组分，其由以下各项中的至少一个组成：N‑甲酰基吗啉、N,N‑二甲基丙酰胺、3‑甲氧基‑N,N‑二甲基丙酰胺、磷酸三乙酯、N,N‑二甲基乙酰胺、N,N‑二乙基乙酰胺、N,N‑二乙基丙酰胺、N‑甲基乙酰胺、N‑甲基丙酰胺、N‑乙基乙酰胺以及N‑乙基丙酰胺。