一种适用于线性光斑激光熔覆的同轴气氛保护送粉喷嘴

摘要

一种适用于线性光斑激光熔覆的同轴气氛保护送粉喷嘴属于激光熔覆设备技术领域，具体涉及一种适用于线性光斑激光熔覆设备的同轴气氛保护送粉喷嘴。本发明提供一种可靠、稳定、高效，且适用于线性光斑激光熔覆的同轴气氛保护送粉喷嘴。本发明包括结构主体和送粉嘴，其特征在于：所述结构主体顶部设置有金属粉末通道，主体结构内，倾斜设置有对光对粉插针通孔，所述金属粉末通道的末端与对光对粉插针通孔连通；所述结构主体上相应于对光对粉插针通孔的末端设置有连接头，所述送粉嘴与连接头相配合。

说明书

技术领域

本发明属于激光熔覆设备技术领域，具体涉及一种适用于线性光斑激光熔覆设备的同轴气氛保护送粉喷嘴。

背景技术

在激光熔覆加工中，常见的激光熔覆是通过聚焦镜将激光聚集到一个焦点，然后通过送粉装置将金属粉末送到激光焦点处，在加工件表面形成熔池修复工件表面的一种加工方式。随着激光熔覆加工工艺的日渐成熟，点式熔覆加工已经不能满足人们对加工效率的追求。因此，线性光斑激光熔覆加工开始出现，而线性光斑激光熔覆加工的出现，就必然需要一种能够与之匹配的送粉方式；目前市面上还没有适用于线性光斑激光熔覆的喷嘴。

发明内容

本发明就是针对上述问题，提供一种可靠、稳定、高效，且适用于线性光斑激光熔覆的同轴气氛保护送粉喷嘴。

为了实现本发明的上述目的，本发明采用如下技术方案，本发明包括结构主体和送粉嘴，其特征在于：所述结构主体顶部设置有金属粉末通道，主体结构内，倾斜设置有对光对粉插针通孔，所述金属粉末通道的末端与对光对粉插针通孔连通；所述结构主体上相应于对光对粉插针通孔的末端设置有连接头，所述送粉嘴与连接头相配合。

作为本发明的一种优选方案，所述送粉嘴内设置有与对光对粉插针通孔对应的出粉孔，所述出粉孔设置为长圆形通孔。

作为本发明的另一种优选方案，所述结构主体内设置有保护气进气通道，所述送粉嘴的出粉孔侧方设置有与保护气进气通道连通的出气孔。

进一步的，所述出气孔设置为两个弧形的孔槽，两弧形的孔槽分别设置于出粉孔的两侧；所述两弧形的孔槽内，沿孔槽的弧形排布设置有多个吹风圆孔。

作为本发明的第三种优选方案，所述结构主体内设置有冷却水循环通道。

本发明的有益效果：本发明使用简单的机械结构，实现金属粉末呈线性形状均匀输出，适应线性光斑激光熔覆，提高熔覆效率；通过冷却水的循环带走送粉喷嘴因激光反射光引起的热量，保证送粉喷嘴不产生形变；通过对光对粉功能，实现金属粉末准确送达激光熔覆熔池，提高粉末利用率；通过同轴保护气装置提供同轴气体保护，保证激光熔覆表面不易氧化，提高激光熔覆层质量。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明结构主体的结构示意图。

图3是图2的A-A剖视图。

图4是图2的B-B剖视图。

图5是图2的C-C剖视图。

图6是图1的D向视图。

附图中1为插针、2为出气孔、3为出粉孔、4为送粉嘴、5为连接头、6为对光对粉插针通孔、7为结构主体、8为金属粉末通道、9为保护气进气通道、10为冷却水循环通道、11为吹风圆孔、12为孔槽。

具体实施方式

本发明包括结构主体7和送粉嘴4，其特征在于：所述结构主体7顶部设置有金属粉末通道8，主体结构内，倾斜设置有对光对粉插针通孔6，所述金属粉末通道8的末端与对光对粉插针通孔6连通；所述结构主体7上相应于对光对粉插针通孔6的末端设置有连接头5，所述送粉嘴4与连接头5相配合。

作为本发明的一种优选方案，所述送粉嘴4内设置有与对光对粉插针通孔6对应的出粉孔3，所述出粉孔3设置为长圆形通孔。

作为本发明的另一种优选方案，所述结构主体7内设置有保护气进气通道9，所述送粉嘴4的出粉孔3侧方设置有与保护气进气通道9连通的出气孔2。

进一步的，所述出气孔2设置为两个弧形的孔槽12，两弧形的孔槽12分别设置于出粉孔3的两侧；所述两弧形的孔槽12内，沿孔槽12的弧形排布设置有多个吹风圆孔11。

作为本发明的第三种优选方案，所述结构主体7内设置有冷却水循环通道10。

所述金属粉末通道8竖直的设置于结构主体7顶部中心，所述冷却水循环通道10设置于金属粉末通道8的侧方所述连接头5和送粉嘴4之间通过螺纹连接；所述保护气进气通道9设置为两个，两进气通道的入口分别设置于结构主体7的两侧表面，两进气通道的出口设置于所述连接头5上。

本发明使用时，先检查各部分零件是否完整，连接是否牢固。固定好本发明，在对光对粉插针通孔6插入插针1，根据插针1与激光指示光相对位置调整送粉喷嘴姿态，使插针1与激光指示光完全重合后，抽出插针1，连接送粉管，开启循环冷却水和送粉器，当金属粉末从送粉喷嘴出口输出稳定时即可开启激光器进行熔覆加工。

可以理解的是，以上关于本发明的具体描述，仅用于说明本发明而并非受限于本发明实施例所描述的技术方案，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或等同替换，以达到相同的技术效果；只要满足使用需要，都在本发明的保护范围之内。