减小光学薄膜内应力的镀膜方法

摘要

本发明提供了一种减小光学薄膜内应力的镀膜方法，将SiO2或者ZrO的薄膜基片放入真空室内在275‑285℃的温度下烘烤90min，关闭烘烤，进行蒸镀。能消除薄膜内应力或者减少应力的产生，最终保证膜厚不受内应力的影响。