一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置

摘要

本发明公开了一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置，该方法可实现大面积分离式曝光和超精密对准套刻，该装置包括超精密环控系统、主动隔振平台、支撑框架、紫外曝光光源、光刻镜头模块、间隙检测系统、对准模块、承片台模块和控制系统。该装置通过白光干涉光谱测量技术，可实现纳米量级的在线间隙检测和调平，从而实现分离式曝光；通过对准模块和控制系统，可实现超精密对准套刻技术。