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一种实现半导体产生负介电常数并对其进行调制的方法

摘要

本发明公开了一种半导体实现负介电常数的方法,并采用电信号对负介电常数进行调控的方法,具体为:采用辐照源对半导体材料或半导体材料制作而成的半导体器件或半导体器件制作而成的电路进行辐照,与辐照前的样品相比较,辐照后的样品将会在一定频率范围内产生负介电常数;改变辐照后样品两极间的直流偏置电流或者直流偏置电压实现对负介电常数的调制。本发明实现了半导体材料器件在一定频率范围内的负介电常数,与现有采用人工周期性金属结构实现负介电常数相比,具有电学信号可调的特性,并且本发明不增加任何半导体材料和半导体器件以及电路制造的工艺步骤,不增加制作成本,对实现半导体在超材料领域的应用具有重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN107978518A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川大学;

    申请/专利号CN201710971469.3

  • 发明设计人 李芸;龚敏;

    申请日2017-10-18

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610064 四川省成都市武侯区一环路南一段24号

  • 入库时间 2023-06-19 05:12:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/263 申请公布日:20180501 申请日:20171018

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2018-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/263 申请日:20171018

    实质审查的生效

  • 2018-05-01

    公开

    公开

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