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用于使用焦点敏感叠盖目标进行焦点确定的系统及方法

摘要

本发明揭示一种光刻掩模。所述光刻掩模包含至少一个不对称经分段图案元素。特定不对称经分段图案元素包含至少两个分段,其中连续分段之间的分离距离比用于在样本上产生所述特定不对称经分段图案元素的图像的一组投射光学器件的分辨率小,使得所述特定不对称经分段图案元素的所述图像为未经分段图案图像。所述未经分段图案图像在所述样本上的位置指示所述样本沿着所述组投射光学器件的光轴的位置。

著录项

  • 公开/公告号CN107949807A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201680026716.6

  • 发明设计人 W·米厄尔;

    申请日2016-05-13

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张世俊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 05:07:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/44 申请日:20160513

    实质审查的生效

  • 2018-04-20

    公开

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