一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统

摘要

本申请公开了一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统，以简化掩模板的清洗工艺，降低掩模板的清洗成本。所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。