公开/公告号CN107555440A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-09
原文格式PDF
申请/专利权人 赫姆洛克半导体有限责任公司;
申请/专利号CN201710659561.6
发明设计人 迈克尔·莫尔纳;
申请日2009-10-12
分类号C01B33/035(20060101);
代理机构11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司;
代理人章社杲;李伟
地址 美国密歇根州
入库时间 2023-06-19 04:13:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B33/035 申请日:20091012
实质审查的生效
2018-01-09
公开
公开
机译: 利用流化床反应器利用四氯三氟硅烷减少壁沉积来生产硅
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