具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置

摘要

本发明公开了一种具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置，所述抛光头包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和转盘，所述转盘与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述转盘的外周壁设有缘板；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述转盘配合的凹槽，所述转盘配合在所述凹槽内且所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁接触。根据本发明实施例的具有自适应性的抛光头，在抛光头旋转时，防止枢轴组件发生径向方向的移动，有效降低枢轴组件上的周向摆动，以保证抛光头的定心功能，提高抛光头稳定性和自适应性，提高基片的平行度，进而改善基片的抛光特性。