法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-13
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23F1/44 申请公布日:20171020 申请日:20160408
发明专利申请公布后的视为撤回
2019-06-14
著录事项变更 IPC(主分类):C23F1/44 变更前: 变更后: 申请日:20160408
著录事项变更
2017-11-17
实质审查的生效 IPC(主分类):C23F1/44 申请日:20160408
实质审查的生效
2017-10-20
公开
公开
机译: 用于选择性处理或去除有机膜表面上一层劣化层的化学溶液及其使用方法
机译: 硅掩膜层系统,用于生产可用于光学,化学传感器和表面微机械结构的多孔硅结构,包括二氧化硅层,键合层和保护层
机译: 的方法是通过涂覆一层塑料来制备用于连接的基底表面,并使用适当的硅铝硅橡胶和/或硅铝硅橡胶