公开/公告号CN107151769A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-12
原文格式PDF
申请/专利权人 中国人民解放军装甲兵工程学院;
申请/专利号CN201710344773.5
申请日2017-05-16
分类号
代理机构北京华圣典睿知识产权代理有限公司;
代理人陈国伟
地址 100072 北京市丰台区杜家坎21号
入库时间 2023-06-19 03:17:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-10
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C4/02 申请公布日:20170912 申请日:20170516
发明专利申请公布后的驳回
2017-10-10
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C4/02 申请日:20170516
实质审查的生效
2017-09-12
公开
公开
机译: 涂层基质,一种光致抗蚀剂图像形成方法以及一种防反光的组合物,该组合物可以与过量涂层的光致抗蚀剂组合使用,从而可以提高图案化的光致抗蚀剂图像的分辨率
机译: 聚合物组合物,使用该组合物的光敏层,永久性图案,水位透镜,固态成像装置以及可通过加入基于对苯二酚的化合物或乙酰基化合物来提高耐久性的图案形成方法作为聚合引发剂
机译: 基于带有特定结构的结构单元和包含酸-溶液溶解抑制基团的结构单元的树脂成分的正型抗蚀剂组合物和形成能够形成抗蚀剂图案的方法