首页> 中国专利> 具有波前测量装置与光学波前操纵器的投射曝光设备

具有波前测量装置与光学波前操纵器的投射曝光设备

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

一种投射曝光设备，包含投射镜头(12)；波前测量装置，其测量在该投射镜头(12)中的波前，该波前测量装置包含莫尔光栅布置(14)，其具有设计为分别布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18)，其中该物光栅(16)与该像光栅(18)以从该物光栅(16)到该像平面(22)上的成像(24)与该像光栅(18)产生莫尔叠加图案的方式以真实比例的方式彼此协调，其中该莫尔光栅布置(14)以针对该物平面(20)中物场(26)和/或该像平面(22)中像场(28)的多个场点同时产生莫尔叠加图案的方式设计。

著录项

公开/公告号CN107111241A

专利类型发明专利
公开/公告日2017-08-29

原文格式PDF
申请/专利权人卡尔蔡司SMT有限责任公司;
展开▼

申请/专利号CN201580068983.5
发明设计人 M.阿恩茨;S.布雷迪斯特尔;T.格鲁纳;J.哈杰斯;M.施瓦布;
展开▼

申请日2015-12-16
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人王蕊瑞
地址德国上科亨
入库时间 2023-06-19 03:12:05

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-01-12

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20151216

实质审查的生效
2017-08-29

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 具有波前测量装置与光学波前操纵器的投射曝光设备 [P] . 中国专利： CN107111241B . 2020.11.17
2. 具有波前光学操纵器的投射镜头、投射曝光方法和投射曝光设备 [P] . 中国专利： CN107636510B . 2020.11.03
3. Projecting exposure apparatus having wavefront measuring device and optical wavefront manipulator [P] . 日本专利： JP2018508803A . 2018-03-29

机译：具有波前测量装置和光学波前操纵器的投射曝光设备
4. Projection exposure apparatus with wavefront measuring device and optical wavefront manipulator [P] . 美国专利： US10012911B2 . 2018-07-03

机译：具有波前测量装置和光学波前操纵器的投影曝光设备
5. PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND OPTICAL WAVEFRONT MANIPULATOR [P] . 美国专利： US2017336714A1 . 2017-11-23

机译：带有波前测量装置和光学波前操纵器的投影曝光装置