用于定向自组装图案化中的通孔形成的缺陷减少方法和组合物

摘要

本发明涉及两种新型方法：“双涂布方法和单涂布方法”，所述方法通过在制图外延法中使用柱阵列从而形成通孔阵列，其中通过在柱的表面上形成疏水性聚(乙烯基芳基)刷从而对柱的表面进行改性。本发明还涉及组合物，所述组合物包含一个链端被反应性官能团封端的聚(乙烯基芳基)疏水性聚合物刷前体、具有抗蚀刻性疏水性嵌段和高度蚀刻性亲水性嵌段的二嵌段共聚物、热产酸剂和溶剂。