法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-28
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C05G3/00 申请公布日:20170322 申请日:20161120
发明专利申请公布后的驳回
2017-04-19
实质审查的生效 IPC(主分类):C05G3/00 申请日:20161120
实质审查的生效
2017-03-22
公开
公开
机译: 制造半导体器件的方法,一种处理基质的方法,一种基质处理设备以及一种非瞬态计算机可读记录介质,该介质可提高氢氟酸液体的刻蚀速率
机译: 制造能够提高薄膜质量的半导体器件的方法,一种处理基质的方法,一种基质处理设备以及一种记录介质
机译: 具有两个外表面的纸巾或毛巾的产品,一种用于制造该产品的方法,一种用于增加屏障的组合物以及一种用于提高/恢复使用者皮肤的屏障功能的方法