法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-14
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20170315 申请日:20161230
发明专利申请公布后的视为撤回
2017-08-08
著录事项变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20161230
著录事项变更
2017-04-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20161230
实质审查的生效
2017-03-15
公开
公开
机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置
机译: 包括基站和至少一个手机的电话设备,一种手机的订购方法,手机和适用于这种设备的基站
机译: 高通量直写电子束曝光系统及方法