真空室的具有气体引导机构的气体分配装置

摘要

本发明涉及真空室(10)的具有气体引导机构的气体分配装置，其包括具有喷嘴(27,37)的至少一个气体引导通道(25,30)，气体能从所述喷嘴被分配至真空室(10)，并且所述气体分配装置还具有气体供给机构，借助于其能将气体供给至所述气体引导机构，其中所述至少一个气体引导通道(25,30)由构造为空心型材的一体式构件(20)形成。所述气体供给机构的至少一个气体供给通道(25a,30a,30e)也由所述构造为空心型材的一体式构件(20)形成。