法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/06 授权公告日:20121219 终止日期:20131029 申请日:20091029
专利权的终止
2012-12-19
授权
授权
2011-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/06 申请日:20091029
实质审查的生效
2011-09-21
公开
公开
机译: 光学包装中的原位污染物去除
机译: 用于极端紫外光刻的光学表面污染物去除方法,涉及从光学表面去除污染物以形成聚合保护层,该保护层可保护光学表面免受金属化合物的污染
机译: 精炼过程中的辅助萃取用于去除原油中的污染物,精炼厂的脱盐过程中的辅助萃取用于去除污染物,以及炼油厂中的去除污染物的辅助方法