基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法及系统

摘要

本发明涉及CATIA三维设计工程图生成领域，公开了一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法及系统，所述方法包括：从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源及投影对象信息记录到xml配置文件；通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新为一致；通过背景模型与所述投影对象同时关联生成工程视图。本发明实现了CATIA三维模型中可按需跨部类选择背景模型，方便了背景模型的调整、简化了背景模型的大小提高二维图生成效率。

说明书

技术领域

本发明涉及CATIA三维设计工程图生成领域，特别是涉及一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法及系统。

背景技术

随着三维设计日益推广，Enovia、VPM+CATIA三维设计系统给产品研发设计带来很大实惠：提高了产品三维设计质量，减少变更损失、数字样机应用可视化展示等。对于基于背景视图的二维工程图生成，CATIA软件通过手工选择性加载背景模型投影视图，对视图利用“重载属性”功能调整零件或组件的线型、颜色，实现背景视图关系表达，并锁定视图；在背景模型空间关系变化时，需要手工重复相应操作才能达到更新的目的。其操作过程繁琐，易出错，尤其对于类似高速动车组产品、地铁产品这种整车产品三维模型巨大、空间关系复杂，跨大部类背景视图的零组件工程图输出面临三维模型数据量大，要实现背景模型关联和驱动时，加载模型慢、效率很低。带有背景视图的工程图生成，成为阻碍CATIA三维设计应用的阻力之一。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法及系统，解决当前跨大部类背景视图的零组件工程图输出面临的三维模型数据量大、背景出图方法笨拙、效率低、过程繁琐等问题。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供、一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法，所述方法包括：从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件；

通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新一致；

通过背景模型与所述投影对象同时关联生成工程视图。

进一步地，所述背景模型下具有添加和删除背景对象的功能：

读取所述xml配置文件，解析出已在背景模型下的背景对象和未在背景模型下的背景对象；

未在背景模型下的背景对象通过选择复制的方式添加到背景模型下，并将该新添加的背景对象的信息来源添加到xml配置文件；

已在背景模型下的背景对象通过删除的方式，将该背景对象从背景模型下删除，并将该删除的背景对象的信息来源从xml配置文件中删除。

进一步地，所述背景模型下的所述投影对象和背景对象具有不同的二维样式输出设定。

进一步地，背景模型下的背景对象的信息来源方式包括空间区域过滤方式和/或手动选择方式。

进一步地，所述从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件的具体过程为：

选择投影对象，判断所述投影对象是否已存在背景模型；

若所述投影对象已存在背景模型返回按需重新选择其他投影对象，

若所述投影对象不存在背景模型，选择背景对象的信息来源方式，根据背景对象的信息来源方式选择出背景对象，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件；

将选择的背景对象和投影对象一起创建成背景模型；

定义所述背景模型的背景模型节点，将所述背景模型下的背景对象的节点记录在背景模型节点下；

保存上述各步骤的创建信息。

进一步地，所述通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新一致的具体实现过程为：

从更新后的整体模型下选择需更新的背景对象节点，从xml配置文件读取该背景对象的信息，找到背景模型下的背景对象；

将背景模型下的背景对象与从更新后的整体模型下选择出的背景对象进行比较，确保背景对象一致；

判断背景模型下的背景对象的信息来源方式：

若之前为手动添加，则读取原所有手动添加的背景对象和当前从更新后的整体模型下选择的背景对象进行比对；

若之前为空间区域过滤方式添加，则再次通过空间区域过滤的方式从更新后的整体模型中过滤选择背景对象，并确保背景对象在过滤范围内；

将从更新后整体模型中选择出的背景对象更新到背景模型相应的位置，背景模型中不存在的背景对象则自动执行删除功能。

进一步地，每个投影对象均建立一个背景模型，通过xml配置文件对所有背景模型进行更新：

从更新后的整体模型中找到所有的投影模型对应的背景对象，

从xml配置文件读取所有背景对象的信息来源，找到所有背景模型下的背景对象；

将每个背景模型下的背景对象分别与其对应的从更新后的整体模型下选择出的背景对象进行比较，确保背景对象一致；

判断每个背景模型下的背景对象的信息来源方式：

若之前为手动添加，则读取原所有手动添加的背景对象和从当前更新后的整体模型下选择的背景对象进行比对，

若之前为空间区域过滤方式添加，则再次通过空间区域过滤的方式从更新后的整体模型下过滤选择背景对象，并确保背景对象在过滤范围内；

将从更新后的整体模型下获得的背景对象更新到背景模型相应的位置，若背景模型不存在该背景对象则自动执行删除功能。

进一步地，所述空间区域过滤方式的具体过程为：选择过滤范围或手动添加背景对象；

选择包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式，其中包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式分为完全包含或不完全包含两种；

填写过滤区域的数值范围；

根据数值范围和选定的包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式，对过滤对象进行范围过滤，获得过滤后的背景对象。

进一步地，通过背景对象的信息来源方式选择的背景对象具有被查看和编辑的功能。

为解决上述技术问题，本发明提供一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成系统，包括定义背景模型模块，所述定义背景模型模块用来从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件；

背景模型更新模块，所述背景模型更新模块用来实现通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新一致；

背景模型全部更新模块，所述背景模型全部更新模块用来通过xml配置文件实现多个背景模型的批量更新；

背景模型修改模块，所述背景模型修改模块用来对所述背景模型下添加和删除背景对象；

线型设定模块，所述线型设定模块实现对背景模型下的背景对象和投影对象分别设定不同的二维样式输出形式。

(三)有益效果

本发明提供的一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法，实现按需跨部类选择背景模型，并将背景模型信息存储到文件中，以实现驱动更新；方便了背景模型的调整、简化了背景模型大小，并可方便屏蔽其他不必要的背景对象的加载，提高二维图生成效率。

作为本发明的另一方面，本发明提供的一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成系统，应用开发者可以将其相应的模块以功能键的形式集成至CATIA工作桌面中，其中定义背景模型模块、背景模型更新模块、背景模型全部更新模块、背景模型修改模块、线型设定模块分别对应开发出定义投影结构工具、投影结构更新工具、投影结构批量更新工具、投影结构修改工具、2D样式设定工具。这样设计人员在进行带有背景视图的工程图输出时，可以按需快速选择背景三维模型，定义好背景模型组成结构；在投影时，投影对象和其需要的背景对象，同时关联生成工程图视图。线型设定模块可通过背景模型元素线条样式设置工具，方便实现线型和颜色设置，满足二维图背景元素的显示要求。在背景原模型空间位置变化时，可利用“投影结构更新”工具可保证背景模型空间位置的正确性，从而实现二维背景视图的关联更新。

本发明基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法和系统的主要优点为，实现了背景模型快速关联设定，保证了投影对象和背景对象二维投影视图的真实性和关联性、操作方便、效率高：(1)可以跨部类随意方便选择背景模型，简化背景模型大小；(2)能够快速实现背景模型与原模型位置更新；(3)背景对象和投影对象同时投影，既保持关联性，处理又简单快捷；(4)可以快速设置背景几何元素线型和颜色，满足设计要求。

附图说明

图1为本发明实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法的背景模型的建立流程图；

图2为本发明实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法的背景模型更新的流程图；

图3为本发明实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法的背景模型批量更新的流程图；

图4为本发明实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法的背景模型修改的流程图；

图5为本发明实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成系统的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

实施例1

本发明实施例一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法，从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件；通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新为一致；通过在背景模型下实现背景对象和投影对象同时关联生成工程视图。

本实施例基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法可以实现选择性跨部类选择背景对象作为需投影对象的背景对象，简化了需投影的背景模型，避免了采用原整体模型投影时，原整体背景模型过大加载慢的问题；同时通过xml配置文件可以实现投影对象对应的背景模型和原整体模型的一致性，整体模型中背景对象位置发生变化时，背景模型中的背景对象的位置也相应改变，实现了背景模型与整体模型的一致性。

本实施例所述背景模型具有可修改性，也即可以在背景模型下根据需要添加和删除背景对象，具体的操作如图4所示：读取所述xml配置文件，解析出已在背景模型下的背景对象和未在背景模型下的背景对象；需要添加的未在背景模型下的背景对象通过选择复制的方式添加到背景模型下，并将该新添加的背景对象的信息来源添加到xml配置文件；需要删除的已在背景模型下的背景对象通过删除的方式，将该背景对象从背景模型下删除，并将该删除的背景对象的信息来源从xml配置文件中删除。

背景模型具有可修改性，可以在后续使用背景模型时，根据需要添加或删除背景对象，使背景模型更加方便使用。

本实施例所述背景模型下的所述投影对象和背景对象可设置不同的二维输出样式。容易理解背景对象和投影对象采用不同的二维输出样式，例如背景对象采用虚线的形式，投影对象采用标准二维图的形式，这样可以通过线型方便的区分出背景对象和本该需要的投影对象，使二维工程图更加清楚明了。

其中，本实施例所述背景模型下的背景对象的信息来源方式可通过空间区域过滤或手动选择实现。其中，所述空间区域过滤的信息来源方式的具体过程为：选择过滤范围或手动添加背景对象；选择包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式，其中包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式分为完全包含或不完全包含两种；填写过滤区域的数值范围；根据数值范围和选定的包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式，对过滤对象进行范围过滤，获得过滤后的背景元素。

容易理解，背景模型下的背景对象的添加方式为手动选择或空间区域过滤两种，使跨部类选择背景对象时，更加方便。其中，包围盒极点坐标与指定的过滤区域的过滤形式分为完全包含或不完全包含两种，完全包含的意思是只有空间区域全部覆盖整个背景对象时才作为过滤对象，不完全包含的意思是只要是背景对象的部分结构落在空间区域内就作为过滤对象。

如图1所示，本发明所述从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件的具体过程为：选择投影对象，判断所述投影对象是否已存在背景模型；若所述投影对象已存在背景模型返回按需重新选择投影对象，若所述投影对象不存在背景模型，进一步选择背景对象的信息来源方式，根据背景对象的信息来源方式选择出背景对象，并将背景模型下的投影对象和背景对象的信息来源记录到xml配置文件；将选择的背景对象和投影对象一起创建成背景模型；定义所述背景模型的背景模型节点，将所述背景模型下的背景对象的节点记录在背景模型节点下；保存上述各步骤的创建信息。

如图2所示，通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新为一致的具体实现过程为：从更新后的整体模型下选择需更新的背景对象节点，从xml配置文件读取该背景对象的信息，找到背景模型下的原背景对象；将背景模型下的背景对象与从更新后的整体模型下选择出的背景对象进行比较，确保背景对象一致；判断背景模型下的背景对象的信息来源方式，若之前为手动添加，则读取原所有手动添加的背景对象和当前从更新后的整体模型下选择的背景对象进行比对，若之前为空间区域过滤方式添加，则再次通过空间区域过滤的方式从更新后的整体模型中过滤选择背景对象，并确保背景对象在过滤范围内；将从更新后整体模型中选择出背景对象更新到背景模型相应的位置，背景模型中不存在的背景对象则自动执行删除功能。

如图3所示，若每个投影对象均建立一个背景模型，对应多个背景模型通过xml配置文件批量更新的具体过程为：从更新后的整体模型中找到所有的投影模型对应的背景对象，从xml配置文件读取所有背景对象的信息来源，找到所有背景模型下的原背景对象；将所有背景模型下的背景对象分别与其对应的从更新后的整体模型下选择出的背景对象进行比较，确保背景对象一致；判断每个背景模型下的背景对象的信息来源方式，若之前为手动添加，则读取原所有手动添加的背景对象和当前更新后的整体模型中选择下的背景对象进行比对，若之前为空间区域过滤方式添加，则再次通过空间区域过滤的方式从更新后的整体模型下过滤选择背景对象，并确保背景模型内的原背景对象对应的新的背景对象均在过滤范围内；将从更新后的整体模型下获得的背景对象更新到背景模型相应的位置，若背景模型不存在该背景对象则自动执行删除功能。

容易理解，上文中提到的，背景模型不存在该背景对象指的是在建立背景模型时没有选择的背景对象，也即在更新背景模型时，由于整体模型下背景对象位置的改变，一些在最初建立背景模型时并没有包含进去的背景对象会进入过滤区域，而这样背景对象是不需要作为背景模型的背景对象的，所以会被自动删除；换言之，背景模型的更新中，仅仅是对背景模型下已经存在的背景对象以及投影对象的位置更新。

其中，所述背景模型下的背景对象具有被查看和编辑的功能。背景对象可以被查看和编辑，方便操作者连接背景模型中的背景对象以及检查是否所有需要的背景对象均被放入了背景模型中，同时也便于之后的查看更新。

本发明对应上述基于复杂背景视图的CATIA工程图生成方法提供一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成系统，包括定义背景模型模块，所述定义背景模型模块用来从原整体模型中选择投影对象和与投影对象相关的背景对象复制建立成背景模型，并将背景模型下的背景对象的信息来源和投影对象信息记录到xml配置文件；背景模型更新模块，所述背景模型更新模块用来实现通过xml配置文件更新背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系，使背景模型下的背景对象和投影对象的位置关系与其在原整体模型下的位置更新为一致；背景模型全部更新模块，所述背景模型全部更新模块用来通过xml配置文件实现多个背景模型的批量更新；背景模型修改模块，所述背景模型修改模块用来对所述背景模型下添加和删除背景对象；线型设定模块，所述线型设定模块实现对背景模型下的背景对象和投影对象分别设定不同的二维样式输出形式。

本发明提供的一种基于复杂背景视图的CATIA工程图生成系统，应用开发者可以将其相应的模块以功能键的形式集成至CATIA工作桌面中，其中定义背景模型模块、背景模型更新模块、背景模型全部更新模块、背景模型修改模块、线型设定模块分别对应开发出定义投影结构工具、投影结构更新工具、投影结构批量更新工具、投影结构修改工具、2D样式设定工具。

这样设计人员在进行带有背景视图的工程图输出时，可以按需快速选择背景三维模型，定义好背景模型组成结构。在投影时，投影对象和其需要的背景对象，同时关联生成工程图视图。线型设定模块可通过背景模型元素线条样式设置工具，方便实现线型和颜色设置，满足二维图背景元素的显示要求。在背景原模型空间位置变化时，可利用“投影结构更新”工具可保证背景模型空间位置的正确性，从而实现二维背景视图的关联更新。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。