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在鳍式场效晶体管中形成击穿中止区域的方法

摘要

本发明揭露一种在鳍式场效晶体管中形成击穿中止区域的方法,其中,基板可被蚀刻,以形成一对凹槽,以定义鳍片构造。一部份的第一剂离子可经由每一凹槽的底壁植入基板,以在基板形成一对第一掺杂区域,其中每一第一掺杂区域至少一部份延伸到鳍片构造的一信道区域之下。位于每一凹槽底壁的基板可被蚀刻以增加每一凹槽的深度。蚀刻位于每一凹槽底壁的基板会移除一部份在每一凹槽之下的每一第一掺杂区域。在鳍片构造之下,剩下来的该对第一掺杂区域至少定义出一部份鳍片场效晶体管击穿中止区域。

著录项

  • 公开/公告号CN106057673A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 汉辰科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201610194708.4

  • 发明设计人 邓念濠;万志民;李静宜;林哲平;

    申请日2016-03-31

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陆勍

  • 地址 中国台湾新竹县宝山乡新竹科学工业园区研新一路18号5楼

  • 入库时间 2023-06-19 00:45:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/336 申请公布日:20161026 申请日:20160331

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20160331

    实质审查的生效

  • 2016-10-26

    公开

    公开

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