法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-07
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01J3/28 申请公布日:20161026 申请日:20160523
发明专利申请公布后的驳回
2018-05-11
著录事项变更 IPC(主分类):G01J3/28 变更前: 变更后: 申请日:20160523
著录事项变更
2016-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J3/28 申请日:20160523
实质审查的生效
2016-10-26
公开
公开
机译: 一种用于技术设备的纳米级校准刻度的制备方法,可用于结构的高分辨率到超高分辨率成像
机译: 一种用于技术设备的纳米级校准刻度的制备方法,可用于结构的高分辨率到超高分辨率成像
机译: 一种用于技术设备的纳米级标尺的生产和校准的方法,用于结构的高分辨率或超高分辨率成像