在非均质表面上形成金属的方法及并入非均质表面上的金属的结构

摘要

所揭示的技术涉及包含存储器装置的集成电路。一种形成集成电路的方法包括提供包括第一区域及第二区域的表面，其中所述第一区域由不同于所述第二区域的材料形成。所述方法另外包括形成与所述第一区域及所述第二区域接触且跨越所述第一区域及所述第二区域的晶种材料。所述方法进一步包括在晶种材料上形成包括钨的金属。