公开/公告号CN105895983A
专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-24
原文格式PDF
申请/专利权人 中国人民解放军63971部队;
申请/专利号CN201410756642.4
申请日2014-12-12
分类号H01M10/54(20060101);C22B7/00(20060101);C22B13/00(20060101);
代理机构11046 中国人民解放军防化研究院专利服务中心;
代理人刘永盛;朱春野
地址 100191 北京市海淀区花园北路35号西楼
入库时间 2023-06-19 00:20:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-11
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01M10/54 申请公布日:20160824 申请日:20141212
发明专利申请公布后的视为撤回
2017-12-08
实质审查的生效 IPC(主分类):H01M10/54 申请日:20141212
实质审查的生效
2016-08-24
公开
公开
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法